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  • 卢海昌 ( 副教授 ) 赞

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Microstructure scaling of metal-insulator transition properties of VO2 Films.
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发表刊物：Appl. Phys. Lett.
论文类型：基础研究
一级学科：物理学
文献类型：期刊
卷号：118
页面范围：121901
是否译文：否
CN号：null
发表时间：2021-03-30
收录刊物：SCI
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