长期从事极紫外（EUV）光源在光刻及量检测方面的应用，拥有十余年大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验。
主要研究方向：1. 极紫外光源； 2. 先进光刻技术； 3. 芯片量测检测方法
法国巴黎萨克雷大学(Université Paris-Saclay) |
Physics |
博士学位 |
研究生(博士)毕业
瑞典隆德大学(Lund University) |
Photonics |
硕士学位 |
研究生(硕士)毕业
2025.6-2025.6
北京航空航天大学
集成电路科学与工程学院教授
2021.5-2025.6
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
超强激光科学与技术全国重点实验室副主任
研究员
2015.10-2021.4
荷兰阿斯麦公司研究部(ASML Research)
研发科学家
2014.2-2015.9
瑞士苏黎世联邦理工(ETH Zurich)
博士后
2010.9-2013.12
法国原子能署(CEA Saclay)
玛丽居里学者
