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Profile

长期从事极紫外（EUV）光源在光刻及量检测方面的应用，拥有十余年大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验。

主要研究方向：1. 极紫外光源； 2. 先进光刻技术； 3. 芯片量测检测方法

Personal Information

Name (Pinyin):linnan
E-Mail:
Date of Employment:2500-01-11
School/Department:集成电路科学与工程学院
Education Level:博士研究生
Business Address:第一馆312
Gender:Male
Status:Await job assignment
Alma Mater:巴黎萨克雷大学
Teacher College:School of Integrated Circuit Science and Engineering

Educational Experience

法国巴黎萨克雷大学(Université Paris-Saclay) | Physics | Doctoral degree | Postgraduate (Doctoral)
瑞典隆德大学(Lund University) | Photonics | Master's degree | Postgraduate (Master's Degree)

Work Experience

2025.6 - 2025.6 北京航空航天大学 | 集成电路科学与工程学院教授
2021.5 - 2025.6 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 研究员 | 超强激光科学与技术全国重点实验室副主任
2015.10 - 2021.4 荷兰阿斯麦公司研究部(ASML Research) | 研发科学家
2014.2 - 2015.9 瑞士苏黎世联邦理工(ETH Zurich) | 博士后
2010.9 - 2013.12 法国原子能署(CEA Saclay) | 玛丽居里学者