长期从事极紫外（EUV）光源在光刻及量检测方面的应用，拥有十余年大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验。
主要研究方向：1. 极紫外光源； 2. 先进光刻技术； 3. 芯片量测检测方法
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2. 韧劲十足： 不怕试错，越挫越勇，实验室/电脑前能坐得住冷板凳，也有掀翻桌子的决心（当然，是比喻，要爱护公物！）。
3. "硬骨头"爱好者： 看到挑战不是皱眉而是兴奋，有点不信邪的钻研精神。
4. "团宠"体质： 既能单兵作战，更懂团队协作！包容不同脑洞，乐于分享idea，一起干活儿不心累。
5. 沟通小能手： 表达清晰是基操，耐心倾听是修养。别让误会耽误了咱们改变世界的进度条！
6. 心怀热望，敢为人先： 不只关注眼前，更愿投身国家所需、时代所盼的领域。 咱们一起，把"值得做却少人做"的事，变成"做得成且做得好"的事！
发表文章列表
(1) Noise-robust ptychography using unsupervised neural network, Optics and Lasers in Engineering, 2025,
(2) Computational metrology method of collector mirror for EUV lithography, Optics and Lasers in Engineering, 2025,
(3) Characterization of optical depth for laser produced plasma extreme ultraviolet source, Vacuum, 2025,
(4) Diode-pumped Tm:YLF MOPA system delivering 713mJ pulse energy with near-diffraction-limited beam quality, Optics Express, 2025
(5) Characterization and Control of Optical Depth of 1 μm Nd: YAG Laser Produced Sn Plasma, Optics Communications, 2025,
(6) 1 μm激光激发固体Sn靶等离子体EUV辐射特性实验研究, 中国激光, 2025,
(7) 延时可调的双波长激光与Sn靶作用的极紫外辐射特性，物理学报，2025，
(8) 激光锡等离子体极紫外光源发射光谱诊断研究，光谱学与光谱分析，2025
(9) 空间束缚等离子体极紫外宽带光源高转换效率实验研究, 激光与光电子学进展, 2025,
(10) 面向极紫外光刻光源液滴锡靶的光学测量与检测进展, 激光与光电子学进展, 2025，
(11) 极紫外光刻中3D效应缓解方法, 激光与光电子学进展, 2025,
(12) 基于类型差异的极紫外光刻胶曝光机理研究, 激光与光电子学进展, 2025
(13) Mitigating the Impact of Asymmetric Deformation on Advanced Metrology for Photolithography, Applied Sciences, 2024,
(14) 极紫外光刻中的边缘放置误差控制, 中国激光, 2024,
(15) 结构光照明显微成像技术在集成电路掩模检测中的应用，光学学报，2024
(16) Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology, Chinese Optics Letters, 2023,
(17) Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a review, High Power Laser Science and Engineering, 2023,
(18) 100 kHz重复频率锡液滴靶研究, 激光与光电子学进展, 2023,
(19) Enhanced extreme ultraviolet conversion efficiency of a 2 mu m laser-driven preformed tin-droplet target using short picosecond pre-pulses, PHYSICS OF PLASMAS, 2023,
(20) Quantum-Path Resolved Attosecond High-Harmonic Spectroscopy, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2023,
(21) 极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势, 激光与光电子学进展, 2022,
(22) Two-dimensional phase cartography for high-harmonic spectroscopy, OPTICA, 2021,
(23) Divergence Control of High-Harmonic Generation, Physical Review Applied, 2020,
(24) In situ frequency gating and beam splitting of vacuum- and extreme-ultraviolet pulses, Light: Science & Applications, 2016,
(25) Bicircular High-Harmonic Spectroscopy Reveals Dynamical Symmetries of Atoms and Molecules, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2016,
(26) Transverse Electromagnetic Mode Conversion for High-Harmonic Self-Probing Spectroscopy, PHOTONICS, 2015,
(27) Self-Probing Spectroscopy of the SF6 Molecule: A Study of the Spectral Amplitude and Phase of the High Harmonic Emission, JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2015,
(28) Flexible attosecond beamline for high harmonic spectroscopy and XUV/near-IR pump probe experiments requiring long acquisition times, REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2015,
(29) Electron trajectory control of odd and even order harmonics in high harmonic generation using an orthogonally polarised second harmonic field, JOURNAL OF MODERN OPTICS, 2014,
(30) Attosecond evolution of energy- and angle-resolved photoemission spectra in two-color (XUV plus IR) ionization of rare gases, PHYSICAL REVIEW A, 2014,
(31) Storage and Recall of Weak Coherent Optical Pulses with an Efficiency of 25%, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2010.
部分国际专利
(1) US 10816906 B2 美国授权专利
(2) US 10234771 B2 美国授权专利
(3) US 10048596 B2 美国授权专利
(4) US 10630037 B2 美国授权专利
(5) US 10530111 B2 美国授权专利
(6) US 10451559 B2 美国授权专利
(7) US 10379448 B2 美国授权专利
(8) US 10330606 B2 美国授权专利
(9) US 10267744 B2 美国授权专利
(10) US 10133192 B2 美国授权专利
(11) US 10067068 B2 美国授权专利
(12) US20220326152A1 美国专利
(13) US 12044951 B2 美国授权专利
(14) US 20240003809 A1 美国专利
(15) US 20240004312 A1 美国专利
(16) US 20230288818 A1 美国专利
(17) KR 102217258 B1 韩国授权专利
(18) KR 102151013 B1 韩国专利授权
(19) KR 102429847 B1 韩国授权专利
(20) KR 102392704 B1 韩国授权专利
(21) KR 102360940 B1 韩国授权专利
(22) KR 102323993 B1 韩国授权专利
(23) KR 102318583 B1 韩国授权专利
(24) KR 102256685 B1 韩国授权专利
(25) KR 102217202 B1 韩国授权专利
(26) KR102599417B1 韩国授权专利
(27) JP 6727327 B2 日本授权专利
(28)JP 6895985 B2 日本授权专利
(29)JP 6959339 B2 日本授权专利
(30) JP 7271628 B2 日本授权专利
(31) IL 263774 B 以色列授权专利
(32) IL 262358 B 以色列授权专利
(33) IL 262210 A 以色列授权专利
(34) IL 259740 B 以色列授权专利
(35) IL265282B1 以色列授权专利
(36) IL265282B2 以色列授权专利
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