林楠，北京航空航天大学蓝天杰出教授，国家级领军人才，上海市领军人才，欧盟玛丽居里学者。曾任荷兰ASML公司研发科学家、研发部光源技术负责人、中国科学院研究员、博导、全国重点实验室副主任。一直从事集成电路制造光刻光源以及芯片量检测光源研发与工程应用研究，拥有十余年大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验, 截止目前授权和公开国际专利120余项。

主要研究方向：1. 极紫外光源； 2. 先进光刻技术； 3. 芯片量测检测方法；4. 阿秒脉冲产生与应用

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我们想寻找这样的你

我们欢迎具有光学工程、物理、机械、电子、计算机等专业背景的同学。

我们看重的，不只是“拿到一张文凭”，而是几年之后，你真的学会了一些东西，解决了一些问题，也做成了一些值得骄傲的事情。

（1）好奇，也爱琢磨
对未知有兴趣，遇到新问题会忍不住问一句：“为什么？能不能换个方法？”

（2）喜欢挑战“硬骨头”
实验失败、代码报错、结果“不听话”都是科研日常。希望你坐得住冷板凳，也有点“不信邪”的劲头——问题越难，越想把它搞明白。

（3）能独立，也会合作
既能自己扛事，也愿意交流、分享和碰撞想法。一个人可以走得快，但一群靠谱的人，才能把难事真正做成。

（4）有理想，也肯下功夫
不只问“什么容易做”，更愿意想想“什么值得做”。面向国家所需、产业所困，敢于探索少有人走的路，把“值得做但没人做”的事情，变成“做得成、做得好”的事情。

（5）最后把话说在前面：混日子、混文凭的，请绕道。
这里可能没有轻松躺赢，但会有真正的科研挑战、成长和成就感。

我们寻找的不是“标准答案”，而是愿意一起探索、一起折腾、一起把事情做成的伙伴。

下一代光刻 · EUV光源 · 先进半导体ZB
如果你也想认真做点有意思、有挑战、有价值的事情，欢迎加入我们。

发表文章列表

(1) Generation and characterization of Ho: YLF solid-state laser-driven tin plasma for EUV lithography,  Chip, 2026,

(2) Spectral broadband characterization method for laser-produced plasma EUV source, Measurement, 2026

(3) Frontiers and Trends in Advanced Scientific Instruments,  Advanced Scientific Instruments, 2026,

(4) 2μm固体激光驱动极紫外光刻光源辐射特性研究,  中国激光, 2026,

(5) Fast physics-guided ptychographic reconstruction for photomask defect inspection, Optics and Laser Technology, 2026,

(6) Noise-robust ptychography using unsupervised neural network, Optics and Lasers in Engineering, 2025,

(7) Computational metrology method of collector mirror for EUV lithography, Optics and Lasers in Engineering, 2025,

(8) Characterization of optical depth for laser produced plasma extreme ultraviolet source, Vacuum, 2025,

(9) Diode-pumped Tm:YLF MOPA system delivering 713mJ pulse energy with near-diffraction-limited beam quality, Optics Express, 2025,

(10) High dynamical range ptychography by applying Fresnel-based unsupervised neural network for arbitrary pixel size (FUNNAPS) propagation, Optics Express, 2025

(11) Physics-informed Unsupervised Neural Network for Parametric Analysis and Reconstruction via Scatterometry Evaluation (PUNN-PARSE) of Grating Structures on Extreme Ultra-Violet Collector Mirror, Measurement Science and Technology, 2025,

(12) Characterization and Control of Optical Depth of 1 μm Nd: YAG Laser Produced Sn Plasma, Optics Communications, 2025,

(13) 1 μm激光激发固体Sn靶等离子体EUV辐射特性实验研究, 中国激光, 2025,

(14) 空间束缚等离子体极紫外宽带光源高转换效率实验研究, 激光与光电子学进展, 2025,

(15) Mitigating the Impact of Asymmetric Deformation on Advanced Metrology for Photolithography, Applied Sciences, 2024, 

(16) 极紫外光刻中的边缘放置误差控制, 中国激光, 2024, 

(17) Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology, Chinese Optics Letters, 2023, 

(18) Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a review, High Power Laser Science and Engineering, 2023, 

(19) 100 kHz重复频率锡液滴靶研究, 激光与光电子学进展, 2023,

(20) Enhanced extreme ultraviolet conversion efficiency of a 2 mu m laser-driven preformed tin-droplet target using short picosecond pre-pulses, PHYSICS OF PLASMAS, 2023, 

(21) Quantum-Path Resolved Attosecond High-Harmonic Spectroscopy, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2023, 

(22) 极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势, 激光与光电子学进展, 2022, 

(23) Two-dimensional phase cartography for high-harmonic spectroscopy, OPTICA, 2021, 

(24) Divergence Control of High-Harmonic Generation, Physical Review Applied, 2020, 

(25) In situ frequency gating and beam splitting of vacuum- and extreme-ultraviolet pulses, Light: Science & Applications, 2016, 

(26) Bicircular High-Harmonic Spectroscopy Reveals Dynamical Symmetries of Atoms and Molecules, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2016, 

(27) Transverse Electromagnetic Mode Conversion for High-Harmonic Self-Probing Spectroscopy, PHOTONICS, 2015, 

(28) Self-Probing Spectroscopy of the SF6 Molecule: A Study of the Spectral Amplitude and Phase of the High Harmonic Emission, JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2015, 

(29) Flexible attosecond beamline for high harmonic spectroscopy and XUV/near-IR pump probe experiments requiring long acquisition times, REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2015, 

(30) Electron trajectory control of odd and even order harmonics in high harmonic generation using an orthogonally polarised second harmonic field, JOURNAL OF MODERN OPTICS, 2014, 

(31) Attosecond evolution of energy- and angle-resolved photoemission spectra in two-color (XUV plus IR) ionization of rare gases, PHYSICAL REVIEW A, 2014, 

(32) Storage and Recall of Weak Coherent Optical Pulses with an Efficiency of 25%, PHYSICAL REVIEW LETTERS, 2010.

部分国际专利

(1) US 10816906 B2 美国授权专利

(2) US 10234771 B2 美国授权专利

(3) US 10048596 B2 美国授权专利

(4) US 10630037 B2 美国授权专利

(5) US 10530111 B2 美国授权专利

(6) US 10451559 B2 美国授权专利

(7) US 10379448 B2 美国授权专利

(8) US 10330606 B2 美国授权专利

(9) US 10267744 B2 美国授权专利

(10) US 10133192 B2 美国授权专利

(11) US 10067068 B2 美国授权专利

(12) US20220326152A1 美国专利

(13) US 12044951 B2 美国授权专利

(14) US 20240003809 A1 美国专利

(15) US 20230288818 A1 美国专利

(16) US 12411421 B2  美国授权专利

(17) KR 102217258 B1 韩国授权专利

(18) KR 102151013 B1 韩国专利授权

(19) KR 102429847 B1 韩国授权专利

(20) KR 102392704 B1 韩国授权专利

(21) KR 102360940 B1 韩国授权专利

(22) KR 102323993 B1 韩国授权专利

(23) KR 102318583 B1 韩国授权专利 

(24) KR 102256685 B1 韩国授权专利 

(25) KR 102217202 B1 韩国授权专利 

(26) KR102599417B1 韩国授权专利 

(27) JP 6727327 B2 日本授权专利

(28)JP 6895985 B2 日本授权专利

(29)JP 6959339 B2 日本授权专利

(30) JP 7271628 B2 日本授权专利

(31) IL 263774 B 以色列授权专利

(32) IL 262358 B 以色列授权专利 

(33) IL 262210 A 以色列授权专利

(34) IL 259740 B 以色列授权专利

(35) IL265282B1 以色列授权专利

(36) IL265282B2 以色列授权专利

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