利用原位表征技术及集成化ALD平台，围绕ALD生长机制及表面化学过程开展系统研究，结合原位表征与密度泛函理论（DFT）计算，揭示ALD表面化学反应路径、薄膜生长机制及沉积态半导体材料内部缺陷形成机制，为新型ALD设备的设计、工艺优化及新材料开发提供全新途径。
